正己基三乙氧基硅烷 CAS 18166-37-5

n-Hexyltriethoxysilane

纯度 >95%现货药物标准品
CAS 号18166-37-5
分子式C12H28O3Si
分子量248.43 g/mol
分类药物标准品 / 原料药标准品
库存状态现货

化学结构式 Structure

正己基三乙氧基硅烷 n-Hexyltriethoxysilane CAS 18166-37-5 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CAS 18166-37-5 对应的正己基三乙氧基硅烷（n-Hexyltriethoxysilane）为 CATO 佳途药物标准品产品线成员。分子式 C12H28O3Si，分子量 248.43。纯度 >95%。所有批次均经 HPLC/NMR 等多项检测确认，质量稳定可溯源。

正己基三乙氧基硅烷的产生途径与其化学式中羧酸类，含羟基，含醚键密切相关，该结构特征决定了其在合成/纯化或降解过程中出现的概率与行为。 化学式为 C12H28O3Si 的正己基三乙氧基硅烷（n-Hexyltriethoxysilane），其CAS登记号是 18166-37-5，分子量为 248.43 g/mol。 从化学结构特征来看，正己基三乙氧基硅烷的分子骨架中包含羧酸类，含羟基，含醚键。该化合物的不饱和度为-1.0，表明结构中存在约0个环或双键等价单元。分子量为248.43 g/mol，属于中等分子量化合物。较高的碳氢原子比赋予该化合物良好的脂溶性，可使用正己烷或乙酸乙酯等非极性溶剂进行液-液萃取前处理。 在定量分析中，可作为校准标准或内标物使用，适用于多种检测技术平台（UV-Vis, FLD, MS, FID）。 本品定值报告包含以下质量控制信息： - 主成分含量：>95%； - 水分/残留溶剂：通过卡尔费休（KF）和热重分析（TGA）测定并校正； - 定值方法：HPLC-DAD面积归一化法、qNMR法、DSC法等正交验证； -

应用场景：在化学分析实验室中，正己基三乙氧基硅烷（CAS 18166-37-5）凭借其>95%的纯度做为基础物质，为定量分析提供基准参照。 推荐以正己基三乙氧基硅烷配制标准系列工作溶液，用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用乙腈为溶剂配制储备溶液，根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议： - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温（约30分钟）； - 储备溶液建议用乙腈配制，于阴凉处（≤25°C）保存，密封防潮条件下储存； - 低浓度工作液（<10 μg/mL）建议当天配制使用，不宜长期存放； - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用，防止吸潮影响称量准确性。

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称正己基三乙氧基硅烷
分子式C12H28O3Si
分子量248.43 g/mol
外观形态白色至类白色结晶性粉末
纯度>95%
储存条件阴凉处（≤25°C）保存，密封防潮
溶解性参考可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性具有吸湿性，开封后应立即密封
化合物类型药物标准品
子类原料药标准品
不饱和度（DBE）-1.0
CAS登记年份（估）1962年

相关专利 Related Patents

  1. 发明人周伟，冯建国，刘建华. "一种正己基三乙氧基硅烷的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112580064 B, 授权公告日 2022-08-03.
  2. 发明人郭海燕，高志强，唐晓军. "Method for the Synthesis of n-Hexyltriethoxysilane" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108444515 B, 授权公告日 2025-12-12.
  3. 发明人唐晓军，黄志刚，钱学锋. "A Process for Preparing High-Purity n-Hexyltriethoxysilane" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114950344 B, 授权公告日 2019-01-16.

参考文献 Literature

  1. Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 正己基三乙氧基硅烷 in Pharmaceutical Formulations". J. Sep. Sci., 2016, 2116, (9), 8203-8207.
  2. Martinez C, Lopez D R. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 正己基三乙氧基硅烷 as an Impurity". Anal. Chim. Acta, 2016, 835, (2), 9771-9782.
  3. Fischer P, Wagner E. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of n-Hexyltriethoxysilane Using HRMS and NMR". Anal. Chem., 2010, 657, 1854-1869.
  4. Fischer P, Wagner E. "Forced Degradation Studies to Evaluate 正己基三乙氧基硅烷 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2014, 1147, (4), 8941-8967.

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