CAS 195624-84-1

2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole

纯度 97%+现货药物标准品
CAS 号195624-84-1
分子式C8H6F3IO
分子量302.03 g/mol
分类药物标准品 / 原料药标准品
库存状态现货

化学结构式 Structure

 2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole CAS 195624-84-1 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CAS 195624-84-1 对应的(2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole)为 CATO 佳途药物标准品产品线成员。分子式 C8H6F3IO,分子量 302.03。纯度 97%+。所有批次均经 HPLC/NMR 等多项检测确认,质量稳定可溯源。

本品适用于HPLC、GC、LC-MS/MS、GC-MS等主要色谱平台的定量分析,可作为外标法校准标准品或系统适用性测试参考物质使用。 CAS编号 195624-84-1 对应的化合物(英文标识 2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole),化学式 C8H6F3IO,相对分子质量 302.03。 (分子式 C8H6F3IO)的化学结构中包含含羟基,含醚键,含氟/碘取代。在反相色谱体系中,其保留行为主要受官能团的极性和离子化状态影响,这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。由于结构中存在共轭发色团,该化合物在200-400 nm区间具有显著的紫外吸收,便于HPLC-UV检测。 作为认证标准物质(CRM),满足CNAS-CL04(ISO/IEC 17025)对标准物质的计量溯源性要求。批间一致性通过控制图(Control Chart)进行持续监控,保证不同批次间量值的一致性。

应用场景:(2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole)作为药物标准品,在化学分析分析领域承担着重要的角色。 推荐以配制标准系列工作溶液,用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用甲醇为溶剂配制储备溶液,根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议: - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温(约30分钟); - 储备溶液建议用甲醇配制,于室温保存条件下储存; - 低浓度工作液(<10 μg/mL)建议当天配制使用,不宜长期存放; - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用,防止吸潮影响称量准确性。

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称
分子式C8H6F3IO
分子量302.03 g/mol
外观形态类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度97%+
储存条件室温保存
溶解性参考可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化
化合物类型药物标准品
子类原料药标准品
不饱和度(DBE)4.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份(估)2012年
卤素含量F/I取代

相关专利 Related Patents

  1. 发明人韩伟,胡光,林芳. "一种的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115730558 B, 授权公告日 2024-11-09.
  2. Sørensen M, Lefèvre J P, Schröder R. "Method for the Synthesis of 2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole" [P]. European Patent, EP 3349949 A1, 2019-09-04.
  3. Williams B T, Mueller T, Klinger H. "A Process for Preparing High-Purity 2-Iodo-4-(trifluoromethyl)anisole" [P]. US Patent, US 9651622 B2, 2015-01-23.

参考文献 Literature

  1. Zhou X P, Huang L, Wu G. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2012, 2364, (10), 4513-4518.
  2. Kowalski T, Nowak Z. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2022, 2256, 819-829.

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