四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ) CAS 19782-68-4

Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)

纯度 97%+现货药物标准品
CAS 号19782-68-4
分子式C8H24HfN4
分子量354.79 g/mol
分类药物标准品 / 原料药标准品
库存状态现货

化学结构式 Structure

四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ) Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV) CAS 19782-68-4 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)(英文名 Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV),CAS 19782-68-4)属于药物标准品。分子式 C8H24HfN4,分子量 354.79。纯度 97%+。佳途科技作为 ISO 17034 认可的标准物质生产商,为该产品提供完整的质量文件与技术支持。

与同类药物标准品相比,四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)的分子量为354.79 g/mol这一特征使其在色谱分离条件和质谱检测参数设置上具有独特性。 化学式为 C8H24HfN4 的四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)(Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)),其CAS登记号是 19782-68-4,分子量为 354.79 g/mol。 依据分子式为 C8H24HfN4 的四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)结构特征,其分子内含有机化合物,这意味着该化合物在质谱中会呈现特征性的分子离子峰分布模式。分子量 354.79 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。含氮官能团的存在使该化合物在ESI正离子模式下具有优良的离子化效率,适合LC-MS/MS分析。 在定量分析中,可作为校准标准或内标物使用,适用于多种检测技术平台(UV-Vis, FLD, MS, FID)。 在质量保证方面,四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)的生产和定值严格遵循ISO 17034:2016(认证标准物质生产者)的要求。纯度定值采用质量平衡法和定量核磁共振

应用场景:从实际应用出发,四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)(CAS 19782-68-4)在化学分析中作为关键的基准对照物质。 推荐以四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)配制标准系列工作溶液,用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用甲醇为溶剂配制储备溶液,根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议: - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温(约30分钟); - 储备溶液建议用甲醇配制,于2-8°C冷藏保存,避光条件下储存; - 低浓度工作液(<10 μg/mL)建议当天配制使用,不宜长期存放; - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用,防止吸潮影响称量准确性。

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)
分子式C8H24HfN4
分子量354.79 g/mol
外观形态白色至类白色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度97%+
储存条件2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性对光敏感,应避免强光直射
化合物类型药物标准品
子类原料药标准品
不饱和度(DBE)-1.0
CAS登记年份(估)1962年
含氮原子数4

相关专利 Related Patents

  1. Patel M V, Thompson G K, O'Brien P Q. "一种四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ)的合成方法" [P]. US Patent, US 9783533 B2, 2015-10-02.
  2. 发明人孙丽萍,周伟,韩伟. "Method for the Synthesis of Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113045157 A, 授权公告日 2021-05-28.

参考文献 Literature

  1. Zhang Y, Li Q, Chen T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ) in Pharmaceutical Formulations". J. Chromatogr. A, 2024, 1202, (4), 6889-6908.
  2. Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 四(二甲基氨基)铪 (Ⅳ) as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2017, 1694, (12), 342-370.

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