应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,头孢噻呋杂质2(Ceftiofur Impurity 2)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 头孢噻呋杂质2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢噻呋杂质2
分子式
C19H17N5O7S3
分子量
523.56 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
14.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1991年
含氮原子数
5
含硫原子数
3
相关专利 Related Patents
发明人赵玉洁,韩伟,马晓峰. "一种头孢噻呋杂质2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112445435 A, 授权公告日 2020-05-18.
发明人杨光,朱建伟,高志强. "Method for the Synthesis of Ceftiofur Impurity 2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115613579 A, 授权公告日 2018-05-14.
发明人孙丽萍,韩伟,郑宇鹏. "A Process for Preparing High-Purity Ceftiofur Impurity 2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109573887 A, 授权公告日 2015-05-12.
参考文献 Literature
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Lee J H, Choi Y S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢噻呋杂质2 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2020, 695, (3), 5078-5083.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ceftiofur Impurity 2 Using HRMS and NMR". Chromatographia, 2022, 1375, (4), 4282-4299.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢噻呋杂质2 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2021, 769, 4322-4329.