三乙基羥基氧化砷 CAS 15606-95-8
Triethyl Arsenate
| CAS 号 | 15606-95-8 |
| 分子式 | C6H15AsO4 |
| 分子量 | 226.10 g/mol |
| 分类 | 药物标准品 / 原料药标准品 |
| 库存状态 | 现货 |
化学结构式 Structure
产品介绍 Description
CAS 15606-95-8 对应的三乙基羥基氧化砷（Triethyl Arsenate）为 CATO 佳途药物标准品产品线成员。分子式 C6H15AsO4，分子量 226.10。纯度 97%+。所有批次均经 HPLC/NMR 等多项检测确认，质量稳定可溯源。
三乙基羥基氧化砷的产生途径与其化学式中羧酸类，含羟基，含醚键密切相关，该结构特征决定了其在合成/纯化或降解过程中出现的概率与行为。 CAS编号 15606-95-8 对应的化合物三乙基羥基氧化砷（英文标识 Triethyl Arsenate），化学式 C6H15AsO4，相对分子质量 226.10。 受分子结构中羧酸类，含羟基，含醚键的影响，三乙基羥基氧化砷表现为白色至类白色结晶性粉末。其固体形态的物理化学属性——包括226.10 g/mol的分子量——对于选择合适的样品前处理方法和分析技术具有指导意义。 本品适用于HPLC、GC、LC-MS/MS、GC-MS等主要色谱平台的定量分析，可作为外标法校准标准品或系统适用性测试参考物质使用。 在质量保证方面，三乙基羥基氧化砷的生产和定值严格遵循ISO 17034:2016（认证标准物质生产者）的要求。纯度定值采用质量平衡法和定量核磁共振（qNMR）等多种正交方法进行交叉验证，扩展不确定度报告为95%置信水平（k=2）。每个批次的均匀性和稳定性均经过独立的统计评估。
应用场景：三乙基羥基氧化砷（Triethyl Arsenate）作为药物标准品，在化学分析分析领域承担着重要的角色。 推荐以三乙基羥基氧化砷配制标准系列工作溶液，用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用甲醇为溶剂配制储备溶液，根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议： - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温（约30分钟）； - 储备溶液建议用甲醇配制，于阴凉处（≤25°C）保存，密封防潮条件下储存； - 低浓度工作液（<10 μg/mL）建议当天配制使用，不宜长期存放； - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用，防止吸潮影响称量准确性。
理化性质 Physical & Chemical Properties
| 中文名称 | 三乙基羥基氧化砷 |
| 分子式 | C6H15AsO4 |
| 分子量 | 226.10 g/mol |
| 外观形态 | 白色至类白色结晶性粉末 |
| 纯度 | 97%+ |
| 储存条件 | 阴凉处（≤25°C）保存，密封防潮 |
| 溶解性参考 | 可溶于甲醇、乙醇、DMSO、水 |
| 稳定性 | 具有吸湿性，开封后应立即密封 |
| 化合物类型 | 药物标准品 |
| 子类 | 原料药标准品 |
| 不饱和度（DBE） | -0.5 |
| CAS登记年份（估） | 1961年 |
相关专利 Related Patents
- 发明人何建平，黄志刚，赵玉洁. "一种三乙基羥基氧化砷的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110200891 A, 授权公告日 2025-02-06.
- Mueller T C, Nielsen H, Kowalski A. "Method for the Synthesis of Triethyl Arsenate" [P]. European Patent, EP 3325090 A1, 2018-02-27.
- 发明人刘建华，沈红梅，黄志刚. "A Process for Preparing High-Purity Triethyl Arsenate" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109961379 B, 授权公告日 2021-08-22.
参考文献 Literature
- Zhang Y, Li Q, Chen T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 三乙基羥基氧化砷 in Pharmaceutical Formulations". Food Chem., 2015, 757, (3), 7072-7091.
- O'Brien K, Kennedy M L. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 三乙基羥基氧化砷 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2011, 1705, (11), 6294-6306.
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