应用场景:奥硝唑杂质16(Ornidazole Impurity 16)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 奥硝唑杂质16作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥硝唑杂质16
分子式
C7H11ClN2O
分子量
174.63 g/mol
外观形态
白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
3.0
UV特征
有紫外吸收
CAS登记年份(估)
1993年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人王建平,胡光,黄志刚. "一种奥硝唑杂质16的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109361721 A, 授权公告日 2023-05-25.
发明人杨光,朱建伟,高志强. "Method for the Synthesis of Ornidazole Impurity 16" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108802055 A, 授权公告日 2025-04-19.
Brown S R, Park J H, Williams B T. "A Process for Preparing High-Purity Ornidazole Impurity 16" [P]. US Patent, US 10289179 B2, 2023-12-16.
参考文献 Literature
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥硝唑杂质16 in Pharmaceutical Formulations". Phytochemistry, 2014, 555, (3), 38-68.
Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥硝唑杂质16 as an Impurity". Anal. Methods, 2014, 1566, (10), 4076-4081.
Martinez C, Lopez D R. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ornidazole Impurity 16 Using HRMS and NMR". J. Chromatogr. A, 2020, 266, (2), 8396-8402.
Garcia M, Rodriguez P. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奥硝唑杂质16 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Environ. Sci. Technol., 2016, 1683, 5184-5210.