应用场景:托吡司特杂质59(Topiroxostat Impurity 59)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 托吡司特杂质59作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresho
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
托吡司特杂质59
分子式
C12H10Br2N2
分子量
342.03 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
8.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1962年
卤素含量
Br取代
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人林芳,杨光,刘建华. "一种托吡司特杂质59的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116103212 A, 授权公告日 2024-10-04.
发明人高志强,钱学锋,张德明. "Method for the Synthesis of Topiroxostat Impurity 59" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110920418 A, 授权公告日 2017-02-21.
发明人钱学锋,王建平,杨光. "A Process for Preparing High-Purity Topiroxostat Impurity 59" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115277606 B, 授权公告日 2015-06-10.
参考文献 Literature
Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 托吡司特杂质59 in Pharmaceutical Formulations". Biomed. Chromatogr., 2013, 1474, 1523-1536.
Kowalski T, Nowak Z. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 托吡司特杂质59 as an Impurity". J. Sep. Sci., 2010, 1340, 3457-3473.
Garcia M, Rodriguez P. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Topiroxostat Impurity 59 Using HRMS and NMR". J. Agric. Food Chem., 2019, 717, (12), 6779-6789.
O'Brien K, Kennedy M L. "Forced Degradation Studies to Evaluate 托吡司特杂质59 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2012, 1022, 1299-1303.