应用场景:头孢呋辛杂质51(Cefuroxime Impurity 51)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢呋辛杂质51作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢呋辛杂质51
分子式
C15H15N3O7S
分子量
381.36 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
10.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2018年
含氮原子数
3
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
Klinger H, Anderson J P, Hughes D C. "一种头孢呋辛杂质51的合成方法" [P]. US Patent, US 9524358 B2, 2018-11-10.
发明人胡光,刘建华,赵玉洁. "Method for the Synthesis of Cefuroxime Impurity 51" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108166371 B, 授权公告日 2017-02-24.
发明人刘建华,黄志刚,郑宇鹏. "A Process for Preparing High-Purity Cefuroxime Impurity 51" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116209454 A, 授权公告日 2023-08-28.
参考文献 Literature
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢呋辛杂质51 in Pharmaceutical Formulations". Sci. Total Environ., 2022, 1820, (3), 2936-2954.
Wang L, Li J, Zhang H. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢呋辛杂质51 as an Impurity". Anal. Methods, 2021, 1292, 4015-4035.
Lee J H, Choi Y S. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefuroxime Impurity 51 Using HRMS and NMR". Chromatographia, 2019, 1825, (5), 4107-4114.