应用场景:从实际应用出发,奥格列龙杂质5(S,S,S)(CAS 2212021-83-3)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 奥格列龙杂质5(S,S,S)作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thres
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥格列龙杂质5(S,S,S)
分子式
C22H25N3O5
分子量
411.45 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
12.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1998年
含氮原子数
3
相关专利 Related Patents
发明人朱建伟,黄志刚,马晓峰. "一种奥格列龙杂质5(S,S,S)的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109853486 A, 授权公告日 2020-12-27.
Jørgensen K, Mueller T C, Schröder R. "Method for the Synthesis of Orforglipron intermediates 5" [P]. European Patent, EP 3797945 A1, 2025-06-10.
Roberts E F, Thompson G K, Chen K W. "A Process for Preparing High-Purity Orforglipron intermediates 5" [P]. US Patent, US 11566007 B2, 2021-09-04.
参考文献 Literature
Kowalski T, Nowak Z. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥格列龙杂质5(S,S,S) in Pharmaceutical Formulations". Phytochemistry, 2013, 1969, (7), 1544-1548.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥格列龙杂质5(S,S,S) as an Impurity". J. Nat. Prod., 2014, 1377, 8575-8587.
Brown R C, Davis S M. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Orforglipron intermediates 5 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2011, 2008, (4), 4212-4229.
Lee J H, Choi Y S. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奥格列龙杂质5(S,S,S) Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2012, 1701, (10), 2289-2302.