TopFluor<SUP>®</SUP> DG CAS 2316364-30-2
| CAS 号 | 2316364-30-2 |
| 分子式 | C43H71BF2N2O5 |
| 分子量 | 744.84 g/mol |
| 分类 | 药物标准品 / 原料药标准品 |
| 库存状态 | 现货 |
化学结构式 Structure
产品介绍 Description
TopFluor<SUP>®</SUP> DG（英文名 TopFluor<SUP>®</SUP> DG，CAS 2316364-30-2）属于药物标准品。分子式 C43H71BF2N2O5，分子量 744.84。纯度 97%+。佳途科技作为 ISO 17034 认可的标准物质生产商，为该产品提供完整的质量文件与技术支持。
TopFluor<SUP>®</SUP> DG（C43H71BF2N2O5）含有含氮杂环结构，酰胺类，含羟基，含醚键，含氟取代。具有较强的吸湿性，卤素取代增加了化合物的密度和沸点，羧基赋予其一定的酸性特征，这些物理化学性质直接决定了其标准溶液的最佳配制方案和储存策略。分子中的氮原子赋予该化合物一定的碱性特征，在酸性流动相条件下可被有效质子化。 化学式为 C43H71BF2N2O5 的TopFluor<SUP>®</SUP> DG（TopFluor<SUP>®</SUP> DG），其CAS登记号是 2316364-30-2，分子量为 744.84 g/mol。 在定量分析中，可作为校准标准或内标物使用，适用于多种检测技术平台（UV-Vis, FLD, MS, FID）。 在质量保证方面，TopFluor<SUP>®</SUP> DG的生产和定值严格遵循ISO 17034:2016（认证标准物质生产者）的要求。纯度定值采用质量平衡法和定量核磁共振（qNMR）等多种正交方法进行交叉验证，扩展不确定度报告为95%置信水平（k=2）。每个批次的均匀性
应用场景：TopFluor<SUP>®</SUP> DG（TopFluor<SUP>®</SUP> DG，CAS 2316364-30-2）的标准化应用场景涵盖化学分析等多个专业技术领域。 推荐以TopFluor<SUP>®</SUP> DG配制标准系列工作溶液，用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用甲醇/乙腈（1:1）为溶剂配制储备溶液，根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议： - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温（约30分钟）； - 储备溶液建议用甲醇/乙腈（1:1）配制，于阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮条件下储存； - 低浓度工作液（<10 μg/mL）建议当天配制使用，
理化性质 Physical & Chemical Properties
| 中文名称 | TopFluor<SUP>®</SUP> DG |
| 分子式 | C43H71BF2N2O5 |
| 分子量 | 744.84 g/mol |
| 外观形态 | 淡黄色至黄色无定形粉末。（具有轻微卤代物特征气味，挥发性较低） |
| 纯度 | 97%+ |
| 储存条件 | 阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮 |
| 溶解性参考 | 可溶于DMSO、DMF、甲醇 |
| 稳定性 | 空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封；含酯键，遇强碱易水解 |
| 化合物类型 | 药物标准品 |
| 子类 | 原料药标准品 |
| 不饱和度（DBE） | 8.5 |
| UV特征 | 有紫外吸收 |
| 结构特征 | 含芳环 |
| CAS登记年份（估） | 1999年 |
| 卤素含量 | F取代 |
| 含氮原子数 | 2 |
相关专利 Related Patents
- 发明人赵玉洁，周伟，沈红梅. "一种TopFluor<SUP>®</SUP> DG的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112669853 A, 授权公告日 2023-06-21.
- 发明人徐明华，陈志强，李文辉. "Method for the Synthesis of TopFluor<SUP>®</SUP> DG" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117388150 B, 授权公告日 2021-10-15.
- 发明人唐晓军，沈红梅，胡光. "A Process for Preparing High-Purity TopFluor<SUP>®</SUP> DG" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114628090 B, 授权公告日 2016-04-13.
参考文献 Literature
- Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of TopFluor<SUP>®</SUP> DG in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2010, 918, (12), 6004-6007.
- Hughes D, Roberts J, Thomas A. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of TopFluor<SUP>®</SUP> DG as an Impurity". J. Chromatogr. A, 2017, 1089, 4218-4244.
- Yang F, Sun W, Liu J. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of TopFluor<SUP>®</SUP> DG Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2017, 726, 1782-1797.
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