CAS 628-50-2

Chloroformic Acid Impurity 1

纯度 97%+现货药物标准品
CAS 号628-50-2
分子式C6H11ClO2
分子量150.60 g/mol
分类药物标准品 / 原料药标准品
库存状态现货

化学结构式 Structure

Chloroformic Acid Impurity 1 CAS 628-50-2 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CATO 佳途供应的（Chloroformic Acid Impurity 1）为药物标准品，CAS 登记号 628-50-2，分子式 C6H11ClO2，分子量 150.60。纯度 97%+。产品现货库存充足，可提供定制化规格与批次追踪服务。

在现行药典和法规框架下，药物标准品的合规要求中明确涉及对包括在内的目标物的控制。 （Chloroformic Acid Impurity 1），CAS注册编号 628-50-2，化学分子式为 C6H11ClO2，分子量 150.60 g/mol。 依据分子式为 C6H11ClO2 的结构特征，其分子内含羧酸类，含羟基，含醚键，含氯取代，这意味着该化合物在红外光谱中会呈现特征性的官能团伸缩振动信号。分子量 150.60 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。因分子内存在卤素取代基（F/Cl/Br/I），该化合物在质谱分析中呈现特征性的同位素分布模式，可作为定性确认的重要依据。 推荐用于分析方法开发与验证，产品提供完整COA证书，确保ISO 17034标准的量值溯源要求。适用于GLP实验室的日常分析。 作为认证标准物质（CRM），满足CNAS-CL04（ISO/IEC 17025）对标准物质的计量溯源性要求。批间一致性通过控制图（Control Chart）进行持续监控，保证不同批次间量值的一致性。

应用场景：（Chloroformic Acid Impurity 1，CAS 628-50-2）的标准化应用场景涵盖化学分析等多个专业技术领域。 推荐以配制标准系列工作溶液，用于建立标准曲线实现外标法定量。 建议使用甲醇为溶剂配制储备溶液，根据检测灵敏度需求逐级稀释。 使用建议： - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温（约30分钟）； - 储备溶液建议用甲醇配制，于2-8°C冷藏保存，密闭保存防止挥发条件下储存； - 低浓度工作液（<10 μg/mL）建议当天配制使用，不宜长期存放； - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用，防止吸潮影响称量准确性。

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称
分子式C6H11ClO2
分子量150.60 g/mol
外观形态白色至类白色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味）
纯度97%+
储存条件2-8°C冷藏保存，密闭保存防止挥发
溶解性参考可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水（微溶）
稳定性含酯键，遇强碱易水解
化合物类型药物标准品
子类原料药标准品
不饱和度（DBE）1.0
CAS登记年份（估）1957年
卤素含量Cl取代

相关专利 Related Patents

  1. Davis P L, Chen K W, Mueller T. "一种的合成方法" [P]. US Patent, US 10651644 B2, 2021-06-14.
  2. 发明人赵玉洁，周伟，冯建国. "Method for the Synthesis of Chloroformic Acid Impurity 1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111892118 B, 授权公告日 2019-03-05.
  3. 发明人钱学锋，陈志强，郭海燕. "A Process for Preparing High-Purity Chloroformic Acid Impurity 1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116253066 A, 授权公告日 2023-09-23.

参考文献 Literature

  1. O'Brien K, Kennedy M L. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of in Pharmaceutical Formulations". Chemosphere, 2018, 1661, (10), 3829-3845.
  2. Wang L, Li J, Zhang H. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2012, 1586, 7590-7614.

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