应用场景:从实际应用出发,奈必洛尔杂质N1(CAS 929706-85-4)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 奈必洛尔杂质N1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性数
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奈必洛尔杂质N1
分子式
C29H31F2NO4
分子量
495.56 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
室温保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;含酯键,遇强碱易水解
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
14.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1987年
卤素含量
F取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
Martínez F, Sørensen M, Johansson L. "一种奈必洛尔杂质N1的合成方法" [P]. European Patent, EP 3996569 A1, 2024-06-18.
发明人沈红梅,陈志强,杨光. "Method for the Synthesis of Nebivolol Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116857505 B, 授权公告日 2017-06-26.
发明人沈红梅,王建平,杨光. "A Process for Preparing High-Purity Nebivolol Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113530449 A, 授权公告日 2017-12-17.
参考文献 Literature
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奈必洛尔杂质N1 in Pharmaceutical Formulations". Sci. Total Environ., 2017, 1440, (1), 7371-7385.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奈必洛尔杂质N1 as an Impurity". Anal. Methods, 2013, 2006, (2), 2614-2631.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Nebivolol Impurity N1 Using HRMS and NMR". J. Pharm. Biomed. Anal., 2021, 555, (1), 6303-6307.
Smith J A, Johnson M B. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奈必洛尔杂质N1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2022, 625, (7), 8852-8866.