应用场景:阿魏酸杂质2(Ferulic Acid Impurity 2,CAS 1014-83-1)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 阿魏酸杂质2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Th
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
阿魏酸杂质2
分子式
C10H10O4
分子量
194.18 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙醇、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1957年
相关专利 Related Patents
发明人冯建国,王建平,高志强. "一种阿魏酸杂质2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111357656 A, 授权公告日 2023-11-04.
发明人高志强,郑宇鹏,王建平. "Method for the Synthesis of Ferulic Acid Impurity 2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113723262 A, 授权公告日 2021-04-21.
参考文献 Literature
Smith J A, Johnson M B. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 阿魏酸杂质2 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Methods, 2011, 2468, 8080-8104.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 阿魏酸杂质2 as an Impurity". J. Pharm. Biomed. Anal., 2012, 207, 500-504.
Yang F, Sun W, Liu J. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ferulic Acid Impurity 2 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2025, 255, (1), 5882-5886.
Fischer P, Wagner E. "Forced Degradation Studies to Evaluate 阿魏酸杂质2 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2015, 188, (5), 8394-8412.