应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,雷芬那辛杂质N2(Revefenacin Impurity N2)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 雷芬那辛杂质N2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
雷芬那辛杂质N2
分子式
C25H20N2O
分子量
364.44 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
17.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1989年
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人钱学锋,刘建华,杨光. "一种雷芬那辛杂质N2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109227175 A, 授权公告日 2017-12-23.
Thompson G K, Chen K W, Mueller T. "Method for the Synthesis of Revefenacin Impurity N2" [P]. US Patent, US 10964986 B2, 2016-02-11.
Nowak P, Martínez F, Sørensen M. "A Process for Preparing High-Purity Revefenacin Impurity N2" [P]. European Patent, EP 3176906 A1, 2018-02-22.
参考文献 Literature
Yang F, Sun W, Liu J. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 雷芬那辛杂质N2 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Methods, 2017, 272, (4), 3458-3463.
Lee J H, Choi Y S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 雷芬那辛杂质N2 as an Impurity". J. Pharm. Biomed. Anal., 2025, 769, 7596-7606.
O'Brien K, Kennedy M L. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Revefenacin Impurity N2 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2014, 963, 3080-3105.