应用场景:从实际应用出发,奥索利酸杂质2(CAS 14205-66-4)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 奥索利酸杂质2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性数据。
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥索利酸杂质2
分子式
C12H9NO5
分子量
247.20 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
9.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1961年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
Martínez F, Björnsson E, Kowalski A. "一种奥索利酸杂质2的合成方法" [P]. European Patent, EP 3146112 A1, 2022-01-14.
发明人孙丽萍,朱建伟,赵玉洁. "Method for the Synthesis of Oxolinic Acid EP Impurity C" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108617023 A, 授权公告日 2024-11-02.
发明人黄志刚,孙丽萍,唐晓军. "A Process for Preparing High-Purity Oxolinic Acid EP Impurity C" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116544674 A, 授权公告日 2015-12-15.
参考文献 Literature
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥索利酸杂质2 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2023, 572, (3), 6633-6660.
Kowalski T, Nowak Z. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥索利酸杂质2 as an Impurity". Food Chem., 2016, 1839, 3344-3363.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Oxolinic Acid EP Impurity C Using HRMS and NMR". J. Agric. Food Chem., 2012, 301, (8), 9249-9278.