卡巴拉汀杂质 15 CAS 169772-44-5
Rivastigmine Impurity 15
| CAS 号 | 169772-44-5 |
| 分子式 | C11H17NO |
| 分子量 | 179.26 g/mol |
| 分类 | 药物杂质对照品 / EP药典杂质 |
| 库存状态 | 现货 |
化学结构式 Structure
产品介绍 Description
卡巴拉汀杂质 15（英文名 Rivastigmine Impurity 15，CAS 169772-44-5）属于药物杂质对照品。分子式 C11H17NO，分子量 179.26。纯度 97%+。佳途科技作为 ISO 17034 认可的标准物质生产商，为该产品提供完整的质量文件与技术支持。
卡巴拉汀杂质 15的产生途径与其化学式中含氮杂环结构，酰胺类，含羟基，含醚键密切相关，该结构特征决定了其在合成/纯化或降解过程中出现的概率与行为。 CAS编号 169772-44-5 对应的卡巴拉汀杂质 15（Rivastigmine Impurity 15），是化学式为 C11H17NO 的药物杂质标准品，相对分子质量 179.26。 依据分子式为 C11H17NO 的卡巴拉汀杂质 15结构特征，其分子内含含氮杂环结构，酰胺类，含羟基，含醚键，这意味着该化合物在紫外光谱中会呈现特征性的吸收带。分子量 179.26 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。分子中包含芳环或共轭体系，在UV-Vis光谱中具有特征性吸收带，适用于紫外或二极管阵列检测器（DAD）的定量分析。 在长期和加速稳定性研究中，卡巴拉汀杂质 15用于监控活性药物成分（API）及制剂产品在ICH推荐条件下随时间推移产生的杂质变化。其定性定量数据构成杂质档案（Impurity Profile）的关键组成部分，为药品保质期的科学设定和储存条件的优化提供了实验证据。 作为认证标
应用场景：卡巴拉汀杂质 15（Rivastigmine Impurity 15，CAS 169772-44-5）的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性： 卡巴拉汀杂质 15作为药物杂质对照品，其质量控制策略需符合： - ICH Q3A ：新原料药中的杂质限度要求； - ICH Q3B ：新制剂产品中的降解产物限度要求； - USP <1086> ：药物物质中的杂质（修订版）； - EP 5.10 ：杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度（Identification Threshold），应进行结构确证。如超过认定限度（Qualifi
理化性质 Physical & Chemical Properties
| 中文名称 | 卡巴拉汀杂质 15 |
| 分子式 | C11H17NO |
| 分子量 | 179.26 g/mol |
| 外观形态 | 类白色至淡黄色低熔点固体 |
| 纯度 | 97%+ |
| 储存条件 | 2-8°C冷藏保存，避光 |
| 溶解性参考 | 可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO |
| 稳定性 | 对光敏感，应避免强光直射 |
| 化合物类型 | 药物杂质对照品 |
| 子类 | EP药典杂质 |
| 不饱和度（DBE） | 4.0 |
| UV特征 | 有紫外吸收 |
| 结构特征 | 含芳环 |
| CAS登记年份（估） | 2005年 |
| 含氮原子数 | 1 |
相关专利 Related Patents
- 发明人冯建国，王建平，何建平. "一种卡巴拉汀杂质 15的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110845513 B, 授权公告日 2019-09-23.
- 发明人张德明，周伟，高志强. "Method for the Synthesis of Rivastigmine Impurity 15" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114327929 B, 授权公告日 2025-05-17.
参考文献 Literature
- Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 卡巴拉汀杂质 15 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2021, 839, (7), 9669-9676.
- Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 卡巴拉汀杂质 15 as an Impurity". Anal. Chem., 2010, 2299, (5), 4167-4185.
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