应用场景:咪喹莫德杂质N3(Imiquimod Impurity N3)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 咪喹莫德杂质N3作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
咪喹莫德杂质N3
分子式
C13H17N3 · HCl
分子量
251.76 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色低熔点固体。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1987年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
3
相关专利 Related Patents
Hughes D C, O'Brien P Q, Thompson G K. "一种咪喹莫德杂质N3的合成方法" [P]. US Patent, US 11044344 B2, 2017-07-23.
发明人沈红梅,郭海燕,赵玉洁. "Method for the Synthesis of Imiquimod Impurity N3" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109063070 B, 授权公告日 2025-04-09.
发明人李文辉,胡光,徐明华. "A Process for Preparing High-Purity Imiquimod Impurity N3" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117944667 B, 授权公告日 2016-07-25.
参考文献 Literature
Smith J A, Johnson M B. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 咪喹莫德杂质N3 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chim. Acta, 2023, 693, (3), 2303-2328.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 咪喹莫德杂质N3 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2015, 1816, (11), 8329-8355.
Yang F, Sun W, Liu J. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Imiquimod Impurity N3 Using HRMS and NMR". Sci. Total Environ., 2015, 264, 3308-3331.