应用场景:头孢卡品杂质89(Cefcapene Impurity 89)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢卡品杂质89作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢卡品杂质89
分子式
C27H35N5O10S2
分子量
653.72 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
13.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1987年
含氮原子数
5
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
Hughes D C, Klinger H, Davis P L. "一种头孢卡品杂质89的合成方法" [P]. US Patent, US 9747952 B2, 2019-02-13.
发明人韩伟,郭海燕,唐晓军. "Method for the Synthesis of Cefcapene Impurity 89" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110434963 B, 授权公告日 2017-07-28.
Stevens L M, Chen K W, Mueller T. "A Process for Preparing High-Purity Cefcapene Impurity 89" [P]. US Patent, US 9021093 B2, 2020-04-20.
参考文献 Literature
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Kim S H, Park J Y. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢卡品杂质89 as an Impurity". Phytochemistry, 2015, 2102, 2021-2030.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefcapene Impurity 89 Using HRMS and NMR". Anal. Chem., 2012, 2396, 3622-3645.
Lee J H, Choi Y S. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢卡品杂质89 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2014, 1634, 4727-4744.