应用场景:培哚普利杂质N1(Perindopril Impurity N1)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 培哚普利杂质N1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshol
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
培哚普利杂质N1
分子式
C9H15NO2
分子量
169.22 g/mol
外观形态
白色至淡黄色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
3.0
UV特征
有紫外吸收
CAS登记年份(估)
1988年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
Fischer A B, Johnson M A, Stevens L M. "一种培哚普利杂质N1的合成方法" [P]. US Patent, US 11271494 B2, 2023-05-26.
Williams B T, Brown S R, Patel M V. "Method for the Synthesis of Perindopril Impurity N1" [P]. US Patent, US 11965418 B2, 2023-02-08.
发明人罗永刚,韩伟,周伟. "A Process for Preparing High-Purity Perindopril Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109730895 A, 授权公告日 2017-11-06.
参考文献 Literature
O'Brien K, Kennedy M L. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 培哚普利杂质N1 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2016, 583, 8021-8039.
Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 培哚普利杂质N1 as an Impurity". Talanta, 2022, 248, 324-348.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Perindopril Impurity N1 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2018, 1001, 8234-8261.
Fischer P, Wagner E. "Forced Degradation Studies to Evaluate 培哚普利杂质N1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chem., 2017, 813, 8258-8288.