应用场景:头孢卡品杂质35(Cefcapene Impurity 35)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢卡品杂质35作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢卡品杂质35
分子式
C15H22N2O4S
分子量
326.41 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2002年
含氮原子数
2
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人黄志刚,王建平,杨光. "一种头孢卡品杂质35的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113182688 A, 授权公告日 2015-12-15.
发明人韩伟,刘建华,高志强. "Method for the Synthesis of Cefcapene Impurity 35" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114700902 B, 授权公告日 2022-02-05.
发明人高志强,朱建伟,马晓峰. "A Process for Preparing High-Purity Cefcapene Impurity 35" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112530213 B, 授权公告日 2018-09-19.
参考文献 Literature
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Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢卡品杂质35 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2015, 784, 7628-7657.
Martinez C, Lopez D R. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefcapene Impurity 35 Using HRMS and NMR". J. Agric. Food Chem., 2011, 811, 5582-5610.
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢卡品杂质35 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2021, 1454, (12), 2637-2664.