应用场景:丙酚替诺福韦杂质5(Tenofovir Alafenamide Impurity 5,CAS 2055343-42-3)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 丙酚替诺福韦杂质5作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
丙酚替诺福韦杂质5
分子式
C21H29N6O5P C4H4O4
分子量
592.55 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
12.5
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1997年
含氮原子数
6
相关专利 Related Patents
发明人赵玉洁,徐明华,罗永刚. "一种丙酚替诺福韦杂质5的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108063980 A, 授权公告日 2019-10-07.
发明人钱学锋,何建平,张德明. "Method for the Synthesis of Tenofovir Alafenamide Impurity 5" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116798106 B, 授权公告日 2018-02-04.
发明人郑宇鹏,何建平,郭海燕. "A Process for Preparing High-Purity Tenofovir Alafenamide Impurity 5" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116045636 B, 授权公告日 2023-05-11.
参考文献 Literature
Fischer P, Wagner E. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 丙酚替诺福韦杂质5 in Pharmaceutical Formulations". Sci. Total Environ., 2014, 897, (11), 4352-4376.
Brown R C, Davis S M. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 丙酚替诺福韦杂质5 as an Impurity". Phytochemistry, 2024, 798, 2206-2212.
Zhang Y, Li Q, Chen T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Tenofovir Alafenamide Impurity 5 Using HRMS and NMR". J. Agric. Food Chem., 2012, 1770, (1), 1185-1191.
Mueller T, Schmidt R K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 丙酚替诺福韦杂质5 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2018, 414, (11), 2678-2686.