奥格列龙杂质4 CAS 2212021-80-0

Orforglipron Impurity 4

纯度 >95%现货药物杂质对照品
CAS 号2212021-80-0
分子式C25H27N3O2
分子量401.50 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

奥格列龙杂质4 Orforglipron Impurity 4 CAS 2212021-80-0 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CAS 2212021-80-0 对应的奥格列龙杂质4（Orforglipron Impurity 4）为 CATO 佳途药物杂质对照品产品线成员。分子式 C25H27N3O2，分子量 401.50。纯度 >95%。所有批次均经 HPLC/NMR 等多项检测确认，质量稳定可溯源。

与同类药物杂质对照品相比，奥格列龙杂质4的分子量为401.50 g/mol这一特征使其在色谱分离条件和质谱检测参数设置上具有独特性。 CAS编号 2212021-80-0 对应的奥格列龙杂质4（Orforglipron Impurity 4），是化学式为 C25H27N3O2 的药物杂质标准品，相对分子质量 401.50。 依据分子式为 C25H27N3O2 的奥格列龙杂质4结构特征，其分子内含甾体骨架，酰胺类，含羟基，含醚键，这意味着该化合物在紫外光谱中会呈现特征性的吸收带。分子量 401.50 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。分子中包含芳环或共轭体系，在UV-Vis光谱中具有特征性吸收带，适用于紫外或二极管阵列检测器（DAD）的定量分析。 在定量分析中，奥格列龙杂质4（纯度>95%）适用于： - 外标法定量原料药或制剂中特定杂质的含量； - 加标回收实验评估分析方法的准确度； - 检测限/定量限（LOD/LOQ）的测定验证方法灵敏度； - 在LC-MS/MS多反应监测（MRM）模式中作为校正标准品使用。 作为

应用场景：在药品质量控制和药物分析实验室中，奥格列龙杂质4（CAS 2212021-80-0）凭借其>95%的纯度做为基础物质，为定量分析提供基准参照。 推荐应用流程： 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性，选择适当的提取和净化方法； 2. 色谱条件建立 — 以奥格列龙杂质4（纯度>95%）配制系统适用性溶液，验证分离度（Rs）不小于1.5； 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD，应不大于2.0%； 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量，结果以%面积报告。 质量控制要求：每批分析应包含空白、质控和双重分析（duplicate）以验

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称奥格列龙杂质4
分子式C25H27N3O2
分子量401.50 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度>95%
储存条件阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）14.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份（估）1998年
含氮原子数3

相关专利 Related Patents

  1. 发明人钱学锋，唐晓军，王建平. "一种奥格列龙杂质4的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109227291 A, 授权公告日 2020-11-23.
  2. 发明人沈红梅，钱学锋，高志强. "Method for the Synthesis of Orforglipron Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112233587 B, 授权公告日 2019-06-03.

参考文献 Literature

  1. Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥格列龙杂质4 in Pharmaceutical Formulations". Phytochemistry, 2024, 1024, 44-62.
  2. Yang F, Sun W, Liu J. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥格列龙杂质4 as an Impurity". Food Chem., 2022, 1603, (4), 8221-8227.
  3. Martinez C, Lopez D R. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Orforglipron Impurity 4 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2015, 2391, (6), 6496-6501.
  4. Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奥格列龙杂质4 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Sci. Total Environ., 2024, 1803, (6), 7677-7695.

Related Orforglipron Standards 同系列产品

推荐产品 Recommended Standards

为什么选择 CATO 佳途？

加载产品详情...