应用场景:比哌立登EP杂质D(Biperiden EP Impurity D,CAS 475563-21-4)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 比哌立登EP杂质D作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualific
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
比哌立登EP杂质D
分子式
C15H23NO
分子量
233.35 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色低熔点固体
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
5.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2025年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人郑宇鹏,罗永刚,高志强. "一种比哌立登EP杂质D的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115985941 A, 授权公告日 2024-09-01.
Yamamoto T, Mueller T, Hughes D C. "Method for the Synthesis of Biperiden EP Impurity D" [P]. US Patent, US 10364965 B2, 2018-02-26.
发明人刘建华,孙丽萍,胡光. "A Process for Preparing High-Purity Biperiden EP Impurity D" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117869668 A, 授权公告日 2021-11-20.
参考文献 Literature
Martinez C, Lopez D R. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 比哌立登EP杂质D in Pharmaceutical Formulations". Biomed. Chromatogr., 2010, 1486, 8282-8290.
Wang L, Li J, Zhang H. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 比哌立登EP杂质D as an Impurity". Anal. Chim. Acta, 2021, 290, (3), 7677-7691.
Kowalski T, Nowak Z. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Biperiden EP Impurity D Using HRMS and NMR". Talanta, 2025, 120, (3), 2271-2288.
Kim S H, Park J Y. "Forced Degradation Studies to Evaluate 比哌立登EP杂质D Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2011, 1480, 6039-6062.