应用场景:在药品质量控制和药物分析实验室中,拉氧头孢杂质4(CAS 76945-69-2)凭借其97%+的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 法规符合性: 拉氧头孢杂质4作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshol
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
拉氧头孢杂质4
分子式
C24H24N6O5S
分子量
508.55 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
16.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1978年
含氮原子数
6
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
Schröder R, Nowak P, Kowalski A. "一种拉氧头孢杂质4的合成方法" [P]. European Patent, EP 3474981 A1, 2018-06-15.
发明人周伟,钱学锋,郭海燕. "Method for the Synthesis of Latamoxef Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108887599 B, 授权公告日 2015-07-11.
发明人胡光,李文辉,郭海燕. "A Process for Preparing High-Purity Latamoxef Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109999854 B, 授权公告日 2017-04-15.
参考文献 Literature
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Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 拉氧头孢杂质4 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2019, 114, (3), 6913-6939.
Zhang Y, Li Q, Chen T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Latamoxef Impurity 4 Using HRMS and NMR". Chromatographia, 2018, 507, 7875-7889.
Zhang Y, Li Q, Chen T. "Forced Degradation Studies to Evaluate 拉氧头孢杂质4 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Sep. Sci., 2025, 1291, (8), 5754-5773.