去氧胆酸杂质20 CAS 77731-04-5

Deoxycholic acid Impurity 20

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号77731-04-5
分子式C32H48O6S
分子量560.78 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

去氧胆酸杂质20 Deoxycholic acid Impurity 20 CAS 77731-04-5 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CATO 佳途供应的去氧胆酸杂质20（Deoxycholic acid Impurity 20）为药物杂质对照品，CAS 登记号 77731-04-5，分子式 C32H48O6S，分子量 560.78。纯度 97%+。产品现货库存充足，可提供定制化规格与批次追踪服务。

本品定值报告包含以下质量控制信息： - 主成分含量：97%+； - 水分/残留溶剂：通过卡尔费休（KF）和热重分析（TGA）测定并校正； - 定值方法：HPLC-DAD面积归一化法、qNMR法、DSC法等正交验证； - 不确定度：扩展不确定度（k=2）包含测量重复性、均匀性和稳定性分量。 CAS编号 77731-04-5 对应的去氧胆酸杂质20（Deoxycholic acid Impurity 20），是化学式为 C32H48O6S 的药物杂质标准品，相对分子质量 560.78。 依据分子式为 C32H48O6S 的去氧胆酸杂质20结构特征，其分子内含含砜基，羧酸类，含羟基，含醚键，多环芳烃，这意味着该化合物在紫外光谱中会呈现特征性的吸收带。分子量 560.78 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。分子中包含芳环或共轭体系，在UV-Vis光谱中具有特征性吸收带，适用于紫外或二极管阵列检测器（DAD）的定量分析。 本品推荐用于有关物质检查的方法开发与验证，符合ICH Q3A/Q3B对药物杂质控制的指导原则。在

应用场景：去氧胆酸杂质20（Deoxycholic acid Impurity 20，CAS 77731-04-5）的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 推荐应用流程： 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性，选择适当的提取和净化方法； 2. 色谱条件建立 — 以去氧胆酸杂质20（纯度97%+）配制系统适用性溶液，验证分离度（Rs）不小于1.5； 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD，应不大于2.0%； 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量，结果以%面积报告。 质量控制要求：每批分析应包含空白、质控和双重分

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称去氧胆酸杂质20
分子式C32H48O6S
分子量560.78 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末。（含硫化合物特征性气味）
纯度97%+
储存条件室温保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水（微溶）
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）9.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份（估）1979年
含硫原子数1

相关专利 Related Patents

  1. 发明人刘建华，韩伟，孙丽萍. "一种去氧胆酸杂质20的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116503452 B, 授权公告日 2020-07-19.
  2. Williams B T, Anderson J P, Davis P L. "Method for the Synthesis of Deoxycholic acid Impurity 20" [P]. US Patent, US 10016834 B2, 2022-07-18.
  3. 发明人赵玉洁，钱学锋，杨光. "A Process for Preparing High-Purity Deoxycholic acid Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109421086 A, 授权公告日 2020-01-26.

参考文献 Literature

  1. Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 去氧胆酸杂质20 in Pharmaceutical Formulations". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2010, 998, (10), 1238-1256.
  2. Mueller T, Schmidt R K. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 去氧胆酸杂质20 as an Impurity". Anal. Chem., 2024, 2020, (11), 838-856.
  3. Kim S H, Park J Y. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Deoxycholic acid Impurity 20 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2015, 2327, 855-863.
  4. Brown R C, Davis S M. "Forced Degradation Studies to Evaluate 去氧胆酸杂质20 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Sep. Sci., 2019, 1523, (8), 4350-4376.

Related Deoxycholic Standards 同系列产品

推荐产品 Recommended Standards

为什么选择 CATO 佳途？

加载产品详情...