应用场景:在药品质量控制和药物分析实验室中,奥美拉唑杂质49(CAS 89352-76-1)凭借其>95%的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 法规符合性: 奥美拉唑杂质49作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresh
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥美拉唑杂质49
分子式
C18H21N3O3S
分子量
359.44 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
10.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1982年
含氮原子数
3
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人陈志强,杨光,赵玉洁. "一种奥美拉唑杂质49的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113218831 A, 授权公告日 2023-07-16.
发明人郭海燕,刘建华,孙丽萍. "Method for the Synthesis of Omeprazole Impurity 49" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109669819 A, 授权公告日 2015-05-17.
发明人高志强,李文辉,胡光. "A Process for Preparing High-Purity Omeprazole Impurity 49" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110974685 A, 授权公告日 2017-04-06.
参考文献 Literature
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O'Brien K, Kennedy M L. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥美拉唑杂质49 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2017, 2200, (5), 4944-4951.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Omeprazole Impurity 49 Using HRMS and NMR". Anal. Methods, 2023, 2213, (4), 1277-1299.