应用场景:从实际应用出发,瑞司美替罗杂质20(CAS 107228-52-4)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 瑞司美替罗杂质20作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
瑞司美替罗杂质20
分子式
C10H14Cl2N2
分子量
233.14 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
4.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1987年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
Lee S K, Mueller T, Davis P L. "一种瑞司美替罗杂质20的合成方法" [P]. US Patent, US 9430595 B2, 2016-11-23.
发明人何建平,陈志强,赵玉洁. "Method for the Synthesis of Resmetirom Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112538562 B, 授权公告日 2024-01-18.
发明人黄志刚,罗永刚,沈红梅. "A Process for Preparing High-Purity Resmetirom Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108972700 A, 授权公告日 2021-07-14.
参考文献 Literature
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Xu M, Hu Y, Zhou D. "Forced Degradation Studies to Evaluate 瑞司美替罗杂质20 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2020, 664, (5), 9830-9851.