应用场景:头孢罗膦杂质6(Ceftaroline Impurity 6)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢罗膦杂质6作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢罗膦杂质6
分子式
C21H19N8O8PS4
分子量
670.66 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
16.5
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1990年
含氮原子数
8
含硫原子数
4
相关专利 Related Patents
Björnsson E, Sørensen M, Jørgensen K. "一种头孢罗膦杂质6的合成方法" [P]. European Patent, EP 3272407 A1, 2015-05-02.
Williams B T, Thompson G K, Johnson M A. "Method for the Synthesis of Ceftaroline Impurity 6" [P]. US Patent, US 9426511 B2, 2016-07-23.
O'Brien P Q, Kumar R, Yamamoto T. "A Process for Preparing High-Purity Ceftaroline Impurity 6" [P]. US Patent, US 11298323 B2, 2022-10-04.
参考文献 Literature
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢罗膦杂质6 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chem., 2018, 1090, (2), 1846-1849.
Lee J H, Choi Y S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢罗膦杂质6 as an Impurity". Sci. Total Environ., 2011, 2059, (3), 8709-8725.
Fischer P, Wagner E. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ceftaroline Impurity 6 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2016, 456, (2), 649-652.
Mueller T, Schmidt R K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢罗膦杂质6 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Phytochemistry, 2023, 900, (10), 3186-3212.