应用场景:头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质)(Cefixime Impurity 12)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质)作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Quali
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质)
分子式
C16H15N5O8S2
分子量
469.45 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
12.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1991年
含氮原子数
5
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人李文辉,孙丽萍,沈红梅. "一种头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质)的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116141382 A, 授权公告日 2020-11-04.
发明人何建平,孙丽萍,唐晓军. "Method for the Synthesis of Cefixime Impurity 12" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113403559 A, 授权公告日 2021-11-24.
发明人胡光,黄志刚,张德明. "A Process for Preparing High-Purity Cefixime Impurity 12" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116755566 A, 授权公告日 2017-04-03.
参考文献 Literature
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质) in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2022, 1096, (4), 8701-8708.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质) as an Impurity". Molecules, 2020, 720, (4), 500-518.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefixime Impurity 12 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2011, 2241, 7950-7979.
Xu M, Hu Y, Zhou D. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢克肟杂质12(头孢克肟氧化杂质) Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Chemosphere, 2011, 979, (9), 7505-7526.