应用场景:达比加群杂质20(Dabigatran Impurity 20)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 达比加群杂质20作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
达比加群杂质20
分子式
C32H36N6O6
分子量
600.66 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
18.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1991年
含氮原子数
6
相关专利 Related Patents
发明人朱建伟,马晓峰,李文辉. "一种达比加群杂质20的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114236668 A, 授权公告日 2019-12-09.
发明人冯建国,马晓峰,朱建伟. "Method for the Synthesis of Dabigatran Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117736769 B, 授权公告日 2019-07-05.
发明人韩伟,黄志刚,刘建华. "A Process for Preparing High-Purity Dabigatran Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116958981 B, 授权公告日 2023-11-12.
参考文献 Literature
Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 达比加群杂质20 in Pharmaceutical Formulations". Biomed. Chromatogr., 2018, 1523, 6997-7025.
Garcia M, Rodriguez P. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 达比加群杂质20 as an Impurity". Chemosphere, 2023, 2259, (1), 9673-9680.
Mueller T, Schmidt R K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Dabigatran Impurity 20 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2016, 1117, (12), 1652-1664.
Mueller T, Schmidt R K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 达比加群杂质20 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Molecules, 2023, 304, (2), 8739-8742.