应用场景:克霉唑杂质20(Clotrimazole Impurity 20)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 克霉唑杂质20作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
克霉唑杂质20
分子式
C19H14Cl2
分子量
313.22 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
12.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1964年
卤素含量
Cl取代
相关专利 Related Patents
发明人赵玉洁,郭海燕,胡光. "一种克霉唑杂质20的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109019395 A, 授权公告日 2017-02-10.
发明人徐明华,杨光,陈志强. "Method for the Synthesis of Clotrimazole Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116911709 B, 授权公告日 2015-01-23.
发明人罗永刚,胡光,周伟. "A Process for Preparing High-Purity Clotrimazole Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114785898 A, 授权公告日 2015-11-05.
参考文献 Literature
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Smith J A, Johnson M B. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Clotrimazole Impurity 20 Using HRMS and NMR". Molecules, 2015, 2470, (4), 9526-9541.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Forced Degradation Studies to Evaluate 克霉唑杂质20 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Food Chem., 2024, 1962, (7), 1918-1931.