应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,七氟烷杂质10(Sevoflurane Impurity 10)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 七氟烷杂质10作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
七氟烷杂质10
分子式
C4HCl2F7O
分子量
268.94 g/mol
外观形态
白色至类白色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
>95%
储存条件
室温保存,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
在推荐条件下性质稳定
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
0.0
CAS登记年份(估)
1966年
卤素含量
F/Cl取代
相关专利 Related Patents
发明人何建平,韩伟,周伟. "一种七氟烷杂质10的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111397700 A, 授权公告日 2024-08-14.
发明人张德明,唐晓军,徐明华. "Method for the Synthesis of Sevoflurane Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116988127 A, 授权公告日 2024-11-08.
发明人钱学锋,唐晓军,林芳. "A Process for Preparing High-Purity Sevoflurane Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109504020 B, 授权公告日 2025-08-20.
参考文献 Literature
Wang L, Li J, Zhang H. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 七氟烷杂质10 in Pharmaceutical Formulations". Phytochemistry, 2018, 917, 8877-8899.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 七氟烷杂质10 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2022, 1707, 1749-1770.