应用场景:五氟利多杂质N1(Penfluridol Impurity N1,CAS 372956-43-9)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 五氟利多杂质N1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificat
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
五氟利多杂质N1
分子式
C14H6Cl2F6
分子量
359.09 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
8.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2025年
卤素含量
F/Cl取代
相关专利 Related Patents
发明人陈志强,高志强,马晓峰. "一种五氟利多杂质N1的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116035800 A, 授权公告日 2019-01-06.
发明人陈志强,高志强,韩伟. "Method for the Synthesis of Penfluridol Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113635214 A, 授权公告日 2021-11-16.
发明人孙丽萍,徐明华,林芳. "A Process for Preparing High-Purity Penfluridol Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110870470 B, 授权公告日 2023-05-06.
参考文献 Literature
Smith J A, Johnson M B. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 五氟利多杂质N1 in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2020, 1045, (4), 707-719.
Fischer P, Wagner E. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 五氟利多杂质N1 as an Impurity". Molecules, 2012, 776, 6258-6261.
Lee J H, Choi Y S. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Penfluridol Impurity N1 Using HRMS and NMR". J. Agric. Food Chem., 2019, 2292, 3228-3239.
Kim S H, Park J Y. "Forced Degradation Studies to Evaluate 五氟利多杂质N1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Chromatogr. A, 2012, 1408, (9), 1970-1986.