应用场景:头孢美唑杂质23(Cefmetazole Impurity 23,CAS 56610-72-1)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 头孢美唑杂质23作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificati
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢美唑杂质23
分子式
C24H24N6O4S2
分子量
524.62 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
16.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1973年
含氮原子数
6
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人张德明,周伟,韩伟. "一种头孢美唑杂质23的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112211863 A, 授权公告日 2022-09-14.
Stevens L M, O'Brien P Q, Yamamoto T. "Method for the Synthesis of Cefmetazole Impurity 23" [P]. US Patent, US 9964432 B2, 2019-02-08.
发明人沈红梅,冯建国,徐明华. "A Process for Preparing High-Purity Cefmetazole Impurity 23" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110112641 A, 授权公告日 2025-03-14.
参考文献 Literature
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Kowalski T, Nowak Z. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢美唑杂质23 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Nat. Prod., 2019, 816, 212-227.