应用场景:从实际应用出发,替诺福韦酯杂质35(CAS 14047-27-9)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 替诺福韦酯杂质35作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
替诺福韦酯杂质35
分子式
C8H11N5O
分子量
193.21 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>90%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1961年
含氮原子数
5
相关专利 Related Patents
发明人沈红梅,唐晓军,孙丽萍. "一种替诺福韦酯杂质35的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109960662 A, 授权公告日 2020-04-26.
发明人徐明华,刘建华,郭海燕. "Method for the Synthesis of Tenofovir Disoproxil Impurity 35" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112085804 B, 授权公告日 2020-05-08.
Davis P L, Thompson G K, Patel M V. "A Process for Preparing High-Purity Tenofovir Disoproxil Impurity 35" [P]. US Patent, US 10762371 B2, 2022-04-15.
参考文献 Literature
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Kowalski T, Nowak Z. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 替诺福韦酯杂质35 as an Impurity". Anal. Chem., 2010, 2068, 6823-6840.
Mueller T, Schmidt R K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Tenofovir Disoproxil Impurity 35 Using HRMS and NMR". Anal. Methods, 2022, 1377, 6835-6844.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Forced Degradation Studies to Evaluate 替诺福韦酯杂质35 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Chromatographia, 2012, 676, (7), 3416-3421.