应用场景:头孢替安杂质2(Cefotiam Impurity 2,CAS 1566599-01-6)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 头孢替安杂质2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification T
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢替安杂质2
分子式
C13H12N4O4S2
分子量
352.39 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
10.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1993年
含氮原子数
4
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人朱建伟,郭海燕,钱学锋. "一种头孢替安杂质2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116051519 A, 授权公告日 2025-09-10.
发明人杨光,何建平,朱建伟. "Method for the Synthesis of Cefotiam Impurity 2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115913264 B, 授权公告日 2015-09-11.
Anderson J P, Park J H, Johnson M A. "A Process for Preparing High-Purity Cefotiam Impurity 2" [P]. US Patent, US 9764809 B2, 2020-06-03.
参考文献 Literature
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Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢替安杂质2 as an Impurity". Sci. Total Environ., 2017, 714, 2592-2598.
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Martinez C, Lopez D R. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢替安杂质2 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Pharm. Biomed. Anal., 2017, 426, (7), 7723-7743.