依达拉奉杂质N2 CAS 168848-20-2

Edaravone Impurity N2

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号168848-20-2
分子式C20H18N4O
分子量330.38 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

依达拉奉杂质N2 Edaravone Impurity N2 CAS 168848-20-2 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

本产品为药物杂质对照品依达拉奉杂质N2(Edaravone Impurity N2,CAS 168848-20-2),分子式 C20H18N4O,分子量 330.38。纯度 97%+。适用于分析方法开发、方法验证及日常质检,CATO 提供全程冷链与全球配送。

在质量保证方面,依达拉奉杂质N2的生产和定值严格遵循ISO 17034:2016(认证标准物质生产者)的要求。纯度定值采用质量平衡法和定量核磁共振(qNMR)等多种正交方法进行交叉验证,扩展不确定度报告为95%置信水平(k=2)。每个批次的均匀性和稳定性均经过独立的统计评估。 分子式为 C20H18N4O 的依达拉奉杂质N2(CAS 168848-20-2),作为药物杂质分析中常用的定量对照标准品,为行业实验室广泛采纳。 依达拉奉杂质N2(C20H18N4O)含有甾体骨架,酰胺类,含羟基,含醚键。其物理化学性质在同类化合物中具有代表性,这些物理化学性质直接决定了其标准溶液的最佳配制方案和储存策略。由于结构中存在共轭发色团,该化合物在200-400 nm区间具有显著的紫外吸收,便于HPLC-UV检测。 本品满足ISO 17034:2016和ISO Guide 35对认证标准物质的要求,适用于通过ISO/IEC 17025认可的GMP质量控制实验室。 每批次依达拉奉杂质N2均采用质量平衡法结合定量NMR(qNMR)进行纯度定值,

应用场景:依达拉奉杂质N2(Edaravone Impurity N2,CAS 168848-20-2)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 推荐分析方法: - HPLC-DAD/UV :使用C18反相色谱柱(4.6 × 250 mm, 5 μm),流动相推荐乙腈-磷酸盐缓冲液体系(pH调节至3.0 ± 0.1); - LC-MS/MS :采用ESI离子源,正/负离子模式选择取决于流动相组成,推荐MRM模式进行高灵敏度定量; - GC-FID/MS :适用于具有一定挥发性的成分,需通过衍生化或程序升温进行优化分离。 标准溶液配制建议 :精确称取依达拉

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称依达拉奉杂质N2
分子式C20H18N4O
分子量330.38 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度97%+
储存条件2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性对光敏感,应避免强光直射
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度(DBE)14.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份(估)2005年
含氮原子数4

相关专利 Related Patents

  1. 发明人朱建伟,钱学锋,唐晓军. "一种依达拉奉杂质N2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112398448 B, 授权公告日 2021-04-12.
  2. 发明人黄志刚,唐晓军,钱学锋. "Method for the Synthesis of Edaravone Impurity N2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116998901 A, 授权公告日 2015-06-10.
  3. 发明人朱建伟,陈志强,周伟. "A Process for Preparing High-Purity Edaravone Impurity N2" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108872745 A, 授权公告日 2019-01-27.

参考文献 Literature

  1. Fischer P, Wagner E. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 依达拉奉杂质N2 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2011, 1472, 7401-7425.
  2. Kim S H, Park J Y. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 依达拉奉杂质N2 as an Impurity". J. Sep. Sci., 2021, 1128, (4), 6375-6404.

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