应用场景:达格列净杂质220(Dapagliflozin impurity 220,CAS 2266576-17-2)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 达格列净杂质220作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qual
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
达格列净杂质220
分子式
C29H31ClO11
分子量
591.00 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
97%+
储存条件
室温保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;含酯键,遇强碱易水解
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
14.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1998年
卤素含量
Cl取代
相关专利 Related Patents
Kumar R, O'Brien P Q, Hughes D C. "一种达格列净杂质220的合成方法" [P]. US Patent, US 11197116 B2, 2023-05-10.
发明人唐晓军,何建平,张德明. "Method for the Synthesis of Dapagliflozin impurity 220" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114178365 B, 授权公告日 2025-01-06.
发明人陈志强,孙丽萍,张德明. "A Process for Preparing High-Purity Dapagliflozin impurity 220" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109795039 A, 授权公告日 2021-07-17.
参考文献 Literature
Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 达格列净杂质220 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2024, 1865, (5), 5478-5497.
Garcia M, Rodriguez P. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 达格列净杂质220 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2010, 315, (11), 7892-7896.
Xu M, Hu Y, Zhou D. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Dapagliflozin impurity 220 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2021, 1838, 337-342.
Xu M, Hu Y, Zhou D. "Forced Degradation Studies to Evaluate 达格列净杂质220 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2022, 311, 7707-7710.