应用场景:达格列净杂质66(Dapagliflozin Impurity 66)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 达格列净杂质66作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresh
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
达格列净杂质66
分子式
C30H35ClO11
分子量
607.05 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
>95%
储存条件
室温保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;含酯键,遇强碱易水解
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
13.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1985年
卤素含量
Cl取代
相关专利 Related Patents
发明人韩伟,赵玉洁,沈红梅. "一种达格列净杂质66的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117235867 A, 授权公告日 2019-07-15.
发明人钱学锋,周伟,何建平. "Method for the Synthesis of Dapagliflozin Impurity 66" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117852557 A, 授权公告日 2025-07-20.
发明人高志强,杨光,刘建华. "A Process for Preparing High-Purity Dapagliflozin Impurity 66" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117157611 A, 授权公告日 2016-12-08.
参考文献 Literature
Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 达格列净杂质66 in Pharmaceutical Formulations". Molecules, 2013, 445, (4), 3578-3600.
Fischer P, Wagner E. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 达格列净杂质66 as an Impurity". Anal. Chem., 2015, 2060, (2), 4797-4825.
Kowalski T, Nowak Z. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Dapagliflozin Impurity 66 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2020, 1459, (9), 7169-7179.