应用场景:多奈哌齐杂质59(Donepezil Impurity 59)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 多奈哌齐杂质59作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
多奈哌齐杂质59
分子式
C23H27NO3
分子量
365.47 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
11.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1991年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人韩伟,唐晓军,沈红梅. "一种多奈哌齐杂质59的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111707920 A, 授权公告日 2018-02-24.
Roberts E F, Kumar R, Hughes D C. "Method for the Synthesis of Donepezil Impurity 59" [P]. US Patent, US 10885216 B2, 2015-04-06.
发明人马晓峰,刘建华,郑宇鹏. "A Process for Preparing High-Purity Donepezil Impurity 59" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117267100 B, 授权公告日 2025-07-21.
参考文献 Literature
Zhang Y, Li Q, Chen T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 多奈哌齐杂质59 in Pharmaceutical Formulations". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2015, 304, 9474-9485.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 多奈哌齐杂质59 as an Impurity". Chromatographia, 2013, 641, 3433-3460.
Lee J H, Choi Y S. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Donepezil Impurity 59 Using HRMS and NMR". Phytochemistry, 2015, 1435, (4), 2316-2337.