应用场景:奥美拉唑杂质23(Omeprazole Impurity 23,CAS 121767-77-9)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 奥美拉唑杂质23作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificati
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥美拉唑杂质23
分子式
C8H10ClN
分子量
155.62 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
4.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1991年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人李文辉,冯建国,沈红梅. "一种奥美拉唑杂质23的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115962240 A, 授权公告日 2022-12-20.
发明人郑宇鹏,沈红梅,赵玉洁. "Method for the Synthesis of Omeprazole Impurity 23" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115494053 A, 授权公告日 2024-02-11.
发明人何建平,徐明华,赵玉洁. "A Process for Preparing High-Purity Omeprazole Impurity 23" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113553454 A, 授权公告日 2023-05-05.
参考文献 Literature
Mueller T, Schmidt R K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥美拉唑杂质23 in Pharmaceutical Formulations". Molecules, 2011, 1082, 9348-9373.
Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥美拉唑杂质23 as an Impurity". J. Pharm. Biomed. Anal., 2018, 1751, (4), 9207-9229.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Omeprazole Impurity 23 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2015, 2066, 9526-9544.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奥美拉唑杂质23 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2010, 307, 7331-7350.