应用场景:五氟利多杂质7(Penfluridol Impurity 7)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 五氟利多杂质7作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
五氟利多杂质7
分子式
C16H14F2O
分子量
260.28 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色低熔点固体。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
9.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1992年
卤素含量
F取代
相关专利 Related Patents
O'Brien P Q, Lee S K, Fischer A B. "一种五氟利多杂质7的合成方法" [P]. US Patent, US 11377136 B2, 2022-03-14.
发明人郭海燕,韩伟,沈红梅. "Method for the Synthesis of Penfluridol Impurity 7" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110708350 B, 授权公告日 2022-06-21.
发明人王建平,朱建伟,赵玉洁. "A Process for Preparing High-Purity Penfluridol Impurity 7" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115211911 A, 授权公告日 2021-02-20.
参考文献 Literature
Mueller T, Schmidt R K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 五氟利多杂质7 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2016, 1699, 9444-9452.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 五氟利多杂质7 as an Impurity". Anal. Methods, 2018, 679, (12), 6370-6385.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Penfluridol Impurity 7 Using HRMS and NMR". Talanta, 2017, 747, (10), 1704-1710.