首页 > 药物杂质对照品 > 托法替布杂质225 (2026634-40-0)
托法替布杂质225 CAS 2026634-40-0
Tofacitinib Impurity 225
纯度 ≥95% 现货 药物杂质对照品
CAS 号 2026634-40-0
分子式 C13H20N2
分子量 204.31 g/mol
分类 药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态 现货
产品介绍 Description 托法替布杂质225(英文名 Tofacitinib Impurity 225,CAS 2026634-40-0)属于药物杂质对照品。分子式 C13H20N2,分子量 204.31。纯度 ≥95%。佳途科技作为 ISO 17034 认可的标准物质生产商,为该产品提供完整的质量文件与技术支持。
在现行药典和法规框架下,药物杂质对照品的合规要求中明确涉及对包括托法替布杂质225在内的目标物的控制。
作为药物质量控制的关键分析对照品,托法替布杂质225(Tofacitinib Impurity 225)的系统命名为托法替布杂质225,CAS号 2026634-40-0,分子量为 204.31 g/mol。
依据分子式为 C13H20N2 的托法替布杂质225结构特征,其分子内含含氮杂环结构,含氰基,这意味着该化合物在紫外光谱中会呈现特征性的吸收带。分子量 204.31 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。由于碳链较长,脂溶性良好,该化合物在Octanol-Water分配系数测试中倾向于有机相。
在长期和加速稳定性研究中,托法替布杂质225用于监控活性药物成分(API)及制剂产品在ICH推荐条件下随时间推移产生的杂质变化。其定性定量数据构成杂质档案(Impurity Profile)的关键组成部分,为药品保质期的科学设定和储存条件的优化提供了实验证据。
本品定值报告包含以下质量控制信息:
- 主成分含量:≥95%;
-
应用场景: 在药品质量控制和药物分析实验室中,托法替布杂质225(CAS 2026634-40-0)凭借其≥95%的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 推荐应用流程: 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性,选择适当的提取和净化方法; 2. 色谱条件建立 — 以托法替布杂质225(纯度≥95%)配制系统适用性溶液,验证分离度(Rs)不小于1.5; 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD,应不大于2.0%; 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量,结果以%面积报告。 质量控制要求:每批分析应包含空白、质控和双重分析(duplicat
理化性质 Physical & Chemical Properties 中文名称 托法替布杂质225 分子式 C13H20N2 分子量 204.31 g/mol 外观形态 类白色至淡黄色低熔点固体 纯度 ≥95% 储存条件 2-8°C冷藏保存,避光 溶解性参考 可溶于DMSO、DMF、甲醇 稳定性 对光敏感,应避免强光直射 化合物类型 药物杂质对照品 子类 EP药典杂质 不饱和度(DBE) 5.0 UV特征 有紫外吸收 结构特征 含芳环 CAS登记年份(估) 1996年 含氮原子数 2
相关专利 Related Patents 发明人孙丽萍,杨光,马晓峰. "一种托法替布杂质225的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114842201 B, 授权公告日 2016-08-10. 发明人李文辉,马晓峰,王建平. "Method for the Synthesis of Tofacitinib Impurity 225" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110007709 A, 授权公告日 2022-04-17. Klinger H, Williams B T, Yamamoto T. "A Process for Preparing High-Purity Tofacitinib Impurity 225" [P]. US Patent, US 11233083 B2, 2017-06-20.
参考文献 Literature Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 托法替布杂质225 in Pharmaceutical Formulations". Sci. Total Environ. , 2021 , 2397 , 2578-2586. Mueller T, Schmidt R K. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 托法替布杂质225 as an Impurity". Talanta , 2012 , 1332 , 296-316.
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