应用场景:从实际应用出发,利托那韦EP杂质G(CAS 2034136-66-6)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 利托那韦EP杂质G作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
利托那韦EP杂质G
分子式
C37H48N6O7S2
分子量
752.94 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>90%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
17.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1996年
含氮原子数
6
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人沈红梅,赵玉洁,韩伟. "一种利托那韦EP杂质G的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115737681 A, 授权公告日 2015-04-06.
O'Brien P Q, Davis P L, Kumar R. "Method for the Synthesis of Ritonavir EP Impurity G" [P]. US Patent, US 9679323 B2, 2017-08-05.
发明人黄志刚,刘建华,何建平. "A Process for Preparing High-Purity Ritonavir EP Impurity G" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113687062 A, 授权公告日 2023-09-05.
参考文献 Literature
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Mueller T, Schmidt R K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ritonavir EP Impurity G Using HRMS and NMR". Food Chem., 2010, 952, 1232-1257.