应用场景:从实际应用出发,头孢唑林杂质N14(CAS 21743-64-6)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 头孢唑林杂质N14作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢唑林杂质N14
分子式
C3H4N4O2
分子量
128.09 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色液体。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>90%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
4.0
UV特征
有紫外吸收
CAS登记年份(估)
1963年
含氮原子数
4
相关专利 Related Patents
发明人王建平,李文辉,何建平. "一种头孢唑林杂质N14的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112533331 A, 授权公告日 2019-12-04.
发明人王建平,冯建国,陈志强. "Method for the Synthesis of Cefazolin Impurity N14" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114314407 A, 授权公告日 2021-02-08.
Schröder R, Hughes D C, Kumar R. "A Process for Preparing High-Purity Cefazolin Impurity N14" [P]. US Patent, US 10727286 B2, 2015-12-12.
参考文献 Literature
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Zhang Y, Li Q, Chen T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefazolin Impurity N14 Using HRMS and NMR". Anal. Chim. Acta, 2011, 1455, (7), 4946-4970.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢唑林杂质N14 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Nat. Prod., 2024, 2091, 8634-8643.