应用场景:硼替佐米杂质30(Bortezomib Impurity 30)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 硼替佐米杂质30作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
硼替佐米杂质30
分子式
C19H22N4O4
分子量
370.40 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
11.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1999年
含氮原子数
4
相关专利 Related Patents
Rossi M, Lefèvre J P, Nowak P. "一种硼替佐米杂质30的合成方法" [P]. European Patent, EP 3662174 A1, 2015-08-23.
Park J H, Hughes D C, Thompson G K. "Method for the Synthesis of Bortezomib Impurity 30" [P]. US Patent, US 11661370 B2, 2022-10-19.
Park J H, Thompson G K, Anderson J P. "A Process for Preparing High-Purity Bortezomib Impurity 30" [P]. US Patent, US 9376038 B2, 2015-03-06.
参考文献 Literature
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 硼替佐米杂质30 in Pharmaceutical Formulations". Biomed. Chromatogr., 2022, 1195, (10), 9794-9815.
Martinez C, Lopez D R. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 硼替佐米杂质30 as an Impurity". Phytochemistry, 2014, 2258, (5), 8187-8200.
Kowalski T, Nowak Z. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Bortezomib Impurity 30 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2023, 106, (9), 3559-3563.