应用场景:司来帕格杂质17(Selexipag Impurity 17)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 司来帕格杂质17作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
司来帕格杂质17
分子式
C25H30N4O2
分子量
418.53 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
13.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2025年
含氮原子数
4
相关专利 Related Patents
Anderson J P, Roberts E F, Park J H. "一种司来帕格杂质17的合成方法" [P]. US Patent, US 11823949 B2, 2025-03-18.
Davis P L, Chen K W, Mueller T. "Method for the Synthesis of Selexipag Impurity 17" [P]. US Patent, US 11575218 B2, 2017-10-16.
发明人朱建伟,冯建国,徐明华. "A Process for Preparing High-Purity Selexipag Impurity 17" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108421526 A, 授权公告日 2015-09-03.
参考文献 Literature
Lee J H, Choi Y S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 司来帕格杂质17 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2015, 1431, (12), 997-1002.
Fischer P, Wagner E. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 司来帕格杂质17 as an Impurity". Talanta, 2020, 590, 3131-3148.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Selexipag Impurity 17 Using HRMS and NMR". Phytochemistry, 2011, 1014, (10), 5893-5903.
Mueller T, Schmidt R K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 司来帕格杂质17 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Sep. Sci., 2020, 1163, 3071-3091.