应用场景:替洛利生杂质44(Pitolisant Impurity 44)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 替洛利生杂质44作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
替洛利生杂质44
分子式
C10H19NO2
分子量
185.26 g/mol
外观形态
白色至类白色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
2.0
CAS登记年份(估)
1971年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人黄志刚,林芳,张德明. "一种替洛利生杂质44的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110819660 A, 授权公告日 2018-02-04.
发明人孙丽萍,张德明,周伟. "Method for the Synthesis of Pitolisant Impurity 44" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116256505 A, 授权公告日 2015-11-14.
发明人张德明,高志强,黄志刚. "A Process for Preparing High-Purity Pitolisant Impurity 44" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111178304 A, 授权公告日 2018-05-22.
参考文献 Literature
Yang F, Sun W, Liu J. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 替洛利生杂质44 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Methods, 2013, 1068, (5), 9435-9455.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 替洛利生杂质44 as an Impurity". Talanta, 2019, 1568, (9), 6677-6706.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Pitolisant Impurity 44 Using HRMS and NMR". J. Pharm. Biomed. Anal., 2016, 874, 8635-8642.