应用场景:阿立哌唑杂质64(Aripiprazole Impurity 64)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 阿立哌唑杂质64作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresho
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
阿立哌唑杂质64
分子式
C13H16BrNO2
分子量
298.18 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;含酯键,遇强碱易水解
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1975年
卤素含量
Br取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人唐晓军,李文辉,高志强. "一种阿立哌唑杂质64的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116834511 A, 授权公告日 2022-01-06.
发明人陈志强,杨光,胡光. "Method for the Synthesis of Aripiprazole Impurity 64" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115342230 A, 授权公告日 2025-01-18.
参考文献 Literature
Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 阿立哌唑杂质64 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2024, 788, 5802-5814.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 阿立哌唑杂质64 as an Impurity". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2016, 651, 2634-2662.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Aripiprazole Impurity 64 Using HRMS and NMR". J. Sep. Sci., 2023, 1930, 4556-4586.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Forced Degradation Studies to Evaluate 阿立哌唑杂质64 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Food Chem., 2016, 1215, 6478-6487.